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等離子去膠機(jī)是半導(dǎo)體、微電子、光電子、微納加工等領(lǐng)域的核心精密等離子體處理設(shè)備，核心以氧氣為主要工作氣體，在真空環(huán)境中產(chǎn)生高活性的氧等離子體，實(shí)現(xiàn)對(duì)晶圓、基片、...
[查看詳情]技術(shù)文章| Technical articles
在工業(yè)制造的微觀世界里，有這樣一種“隱形利器”——它不依賴蠻力打磨，不使用化學(xué)藥劑，僅憑一束無(wú)形的等離子體，就能讓普通材料的表面實(shí)現(xiàn)“質(zhì)的飛躍”。它就是等離子處理機(jī)，一種藏在眾多產(chǎn)品背后，默默優(yōu)化性能、解決生產(chǎn)痛點(diǎn)的特殊設(shè)備，從日常接觸的塑料件、電子元件，到制造中的精密組件，都有它的身影。很多人對(duì)“等離子”的認(rèn)知停留在科幻場(chǎng)景中，實(shí)則它是物質(zhì)除固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之外的第四種形態(tài)，由高能電子、離子、自由基等活性粒子組成，兼具粒子性與波動(dòng)性。而等離子處理機(jī)，就是通過(guò)特定技術(shù)將普通氣...
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等離子清洗特點(diǎn)是不分處理對(duì)象的基材類型，均可進(jìn)行處理，對(duì)金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料等都能很好地進(jìn)行超清洗。
圖為PLUTO-T等離子清洗機(jī)對(duì)陶瓷基板上銀氧化層的清洗實(shí)例。
等離子清洗機(jī)可用于晶圓或者電路板表面的光刻膠去除，以及去除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件表面的光阻材料等。
圖為PLUTO-MD等離子去膠機(jī)對(duì)PCB板和硅片的去膠實(shí)例。
改善粘合力-用于光學(xué)元件、生物醫(yī)學(xué)、封裝領(lǐng)域等；
表面改性-用于高分子材料表面修飾、PDMS微流控芯片鍵合、玻璃等，增強(qiáng)表面粘附性、浸潤(rùn)性、相容性；
圖為PLUTO-M對(duì)線路板、橡膠管和手機(jī)膜的表面改性實(shí)例。
等離子刻蝕是干法刻蝕中常見的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，電離氣體原子通過(guò)電場(chǎng)加速時(shí)，會(huì)釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。
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