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等離子去膠機通過等離子體技術實現材料表面光刻膠或有機污染物的去除，其核心功能依賴于多個精密部件的協同工作。真空腔室是其核心區域，為等離子體生成與材料處理提供密閉...
[查看詳情]技術文章| Technical articles
在材料科學、印刷包裝、電子制造等領域，表面處理技術是提升材料性能的關鍵環節。實驗室電暈機作為一種非接觸式表面改性設備，通過高頻高壓放電產生的低溫等離子體，能夠改善材料的潤濕性、粘附性和表面能，為后續加工工藝奠定基礎。其核心機制基于電暈放電現象。當在兩個電極間施加足夠高的電壓時，空氣中的氣體分子被電離，形成帶正電的離子和自由電子。這些帶電粒子在強電場中加速，與周圍氣體分子碰撞，進一步激發出更多活性粒子，形成低溫等離子體。這一過程可分為三個階段：1.電場建立與氣體電離高壓電源通過...
[查看詳情]應用案例
等離子清洗特點是不分處理對象的基材類型，均可進行處理，對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料等都能很好地進行超清洗。
圖為PLUTO-T等離子清洗機對陶瓷基板上銀氧化層的清洗實例。
等離子清洗機可用于晶圓或者電路板表面的光刻膠去除，以及去除光學元件、半導體元件表面的光阻材料等。
圖為PLUTO-MD等離子去膠機對PCB板和硅片的去膠實例。
改善粘合力-用于光學元件、生物醫學、封裝領域等；
表面改性-用于高分子材料表面修飾、PDMS微流控芯片鍵合、玻璃等，增強表面粘附性、浸潤性、相容性；
圖為PLUTO-M對線路板、橡膠管和手機膜的表面改性實例。
等離子刻蝕是干法刻蝕中常見的一種形式，其原理是暴露在電子區域的氣體形成等離子體，電離氣體原子通過電場加速時，會釋放足夠的力量與表面驅逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。
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